报告题目：
1、离子束辅助沉积二元亚稳合金薄膜的研究
2、超临界流体沉积法制备IC互连用Ag薄膜

报告人：日本 国立产业技术综合研究所(AIST) 赵 斌 博士



时间：2008年元月4日 （星期五）上午9:00

地点：B203



报告人简历：

1993.9－1997.8 大连铁道学院，学士

1997.9－2000.3 大连理工大学，工学硕士

2000.4－2004.4 清华大学，工学博士

2004.10－2006.10 日本东京大学材料工程系 JSPS(日本学术振兴会)博士后特别研究员

2006.10－至今 日本国立产业技术综合研究所(AIST)先进碳材料研究中心博士后研究员



主要研究兴趣：

新型功能薄膜及纳米结构的制备与性能研究

碳纳米管及其他低维纳米材料的制备和应用







欢迎感兴趣的人员参加！





科技发展部

2007年12月24日