9月8日至12日，由哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室主办的第十一届等离子基离子注入与沉积国际会议(简称PBII&D2011)在哈工大科学园国际会议中心举行。本届PBII&D2011国际会议旨在提供一个PBII&D相关领域最新研究成果的交流与展示的机会，其主题主要包括等离子基离子注入与沉积、高功率脉冲磁控溅射、系统与工业应用、等离子体诊断、仿真与理论、纳米结构、材料表面加工与分析、半导体、类金刚石薄膜、生物材料、聚合物、表面物理、等离子源、离子束辅助沉积、离子束注入和等离子体氮化等。来自多个国家和地区的学者就等离子体表面工程领域的前沿问题进行了深入的交流。

表面工程事业部汪爱英研究员受邀担任分会主席，同时研究组以墙报的形式展示了在金属掺杂DLC薄膜在轻合金的耐磨防腐研究方面的成果。展示期间引起了参会科研人员的兴趣，与会人员就展出的成果进行了深入的交流和探讨，获得了良好的反响。

汪爱英研究员主持分会会议

柯培玲副研究员作分会报告

此次会议还专门设置了高功率脉冲磁控溅射（HIPIMS）分会讨论，在该分会上柯培玲副研究员作了题为“Investigation on the GLC film using a hybrid HIPIMS technique”的口头报告。报告主要介绍了研究组利用复合HIPIMS技术，通过对GLC薄膜的组分与微结构调控，提高薄膜沉积速率，并探讨不同偏压对GLC薄膜的摩擦学行为的影响。报告引起了参会专家的兴趣，并在会后与相关领域的研究者们进行了交流。

在随后举办的第十七届离子束材料表面改性国际会议(SMMIB)上，杨巍博士在会上做了“Tribological properties of MAO/DLC composite coatings on AZ80 magnesium alloy using combined microarc oxidation and ion beam deposition”报告，围绕当前镁合金推广应用中存在的表面性能差这一关键问题，针对现有表面改性技术难以满足镁合金应用要求的现状，详细阐述了新开发的微弧氧化/类金刚石膜（MAO/DLC）复合工艺的技术特点与产业化推广前景，并通过与传统的Ti/DLC膜对比，揭示了新开发技术的工艺优点与性能特点，引起了参会专家的广泛关注。

此次参会一方面扩大了宁波材料所碳基薄膜实验室的知名度和影响力，给参会的国内外同行留下了深刻的印象；另一方面通过与专家同行的沟通交流，对我们研究工作的深入和将来的可能合作具有积极意义。

杨巍博士作分会报告

墙报展示

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　  （表面事业部）