12月24号，应所长崔平邀请，HMI（Hermes-Microvision Inc）USA总经理、China董事长陈仲玮先生访问宁波材料所，并与相关科研人员、研究生代表进行了交流。

陈仲伟以“脚踏实地，建立中国人在世界半导体设备领域的核心竞争力”为主题，从半导体领域所面临的包括半导体曝光、缺陷检测、蚀刻、沉积等问题入手，介绍了HMI公司的研发生产情况，以及该公司研制生产的以SOL原理超高速扫描电子显微镜为基础的低能电子束半导体晶片纳米缺陷检测系统、研制成功的带有8个电子枪的电子显微镜系统等。作为HMI公司的创始人之一，他通过亲身经历和成功案例，与大家讨论交流了事业、挑战、人生，鼓励年轻科研人员、研究生们要珍惜机会，发扬拼搏向上、勇于创新的精神，争取为新材料的发现和材料技术的发展做出贡献。

 

陈仲玮先生于1962年毕业于北京清华大学电机系。1968年至1978年在青海第二机床厂任外线电工，机床电气技术员，青海省科委计算中心负责人。1978年至1981年，在山东工业大学电子束曝光系统实验室读研究生，获得硕士学位，期间在国际上率先提出扫描电子显微镜复合偏转系统中摆动物镜（SOL）的概念。1984年，应聘于英国科学与工程研究委员会外籍科学家，并于剑桥大学微电子学研究所从事电子束曝光系统大扫描场研究。1990年，获得剑桥大学博士学位，同年任英国剑桥仪器公司首席科学家。1990年至1998年远赴美国KLA仪器公司任资深主任工程师，研制电子束检测系统。1998年后，与他人共创HMI（Hermes-Microvision Inc），任HMI公司总经理，并于2012年5月21日在台湾上市，是世界上第一个华人领导的半导体设备上市公司。