中国科学院宁波材料技术与工程研究所

密歇根州立大学孙天胤博士来访宁波材料所

发布:2016-11-08

点赞:

字号: 打印:

  114日,应新能源所杨明辉研究员邀请,密歇根州立大学孙天胤博士到宁波材料所交流访问,并作了题为《Combined Photo- and Thermionic Electron Emission from Low Work Function Diamond Films》的学术报告。

  孙天胤首先介绍了亚利桑那州国家大学关于低功函数金刚石薄膜的研究。用等离子体化学气相沉积法制备的含氮、氢终止的金刚石薄膜,采用低能电子光谱和其他相关技术研究分析,并应用于太阳能和热能转换。此外,他还介绍了密歇根州立大学高亮度电子源的发展。通过采用光学设计的超快电子衍射和相干成像系统,证明了一微米大小的域高序热解石墨单次微衍射的可行性,在10 nm尺度处收取单晶复合材料相干衍射成像。这些初步的结果表明,源性能有限,即使在子相对论电子光束中,也可以大大提高超快电子的成像和衍射。这一论点引起了在场师生的广泛讨论。

  孙天胤,2008年清华大学本科毕业,2009年至2013年就读于亚利桑那州立大学物理系并获博士学位,主要研究方向为低功函数金刚石薄膜的光电子能谱学研究;2014年至2016年在密歇根州立大学担任博士后工作,主要研究方向为高亮度超快电子衍射与微成像系统的优化与强关联材料的超快动力学分析。

 

交流会现场

 

(新能源所 周欣欣)