9月11日，应中国科学院宁波材料技术与工程研究所所属二级所先进制造所光电功能材料与器件团队蒋俊研究员的邀请，日本东北大学教授Takashi Goto（后藤孝）来访宁波材料所，并作了题为“Laser Chemical Vapor Deposition（LCVD） for Ceramics Manufacturing”的学术报告。

　　后藤孝在报告中主要介绍了利用LCVD制备各种薄膜和陶瓷块体的方法，研究成果显示LCVD制备的样品具有高纯度、高致密度和高结晶度的特点，同时与传统CVD相比，其沉积速率可提高5倍以上，从而可降低材料成本，为实现高纯块体材料的低成本、大规模生产奠定了一定的基础。报告内容生动严谨，使参会人员开拓了视野，大家均表示受益匪浅。学术报告结束后，后藤孝与大家热情地就学术问题进行了交流和探讨。

　　后藤孝，日本东北大学教授，国际知名的材料科学家，世界陶瓷学会院士、国际陶瓷联盟技术委员会主席、美国陶瓷学会士、日本学术振兴会先进陶瓷委员会主席，2018年入选国家外专局引智计划专家（河海大学），在材料科学与工程界享有很高的声望和学术地位，国际陶瓷学报（Ceramics International）编委、曾任日本陶瓷学报（Journal of the Ceramic Society of Japan）主编、现任亚洲陶瓷学（Journal of the Asian Ceramic Societies）报创刊人和主编。

报告现场

　　（先进制造所 崔晨）