专利名称：一种噻吩并二噻咯、其衍生物、制备方法以及用途
专利(申请)号：ZL201110174139.4
申请日期：2011-06-24 00:00:00
授权日期：2014-09-03 00:00:00
第一发明人：葛子义
其他发明人：葛子义; 刘颖; 彭瑞祥; 欧阳新华; 杨峰; 张新业; 李敏
专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所