专利名称：一种具有多层结构的纳米阵列材料、其制备方法与应用
专利(申请)号：ZL202110616831.1
申请日期：2021-06-02 00:00:00
授权日期：2022-04-19 00:00:00
第一发明人：林贻超
其他发明人：林贻超; 武斌; 张秋菊; 陈亮
专利权人：宁波杭州湾新材料研究院; 中国科学院宁波材料技术与工程研究所