专利名称：一种化学蚀刻减薄FeNi合金箔带的方法
专利(申请)号：ZL202110847470.1
申请日期：2021-07-26 00:00:00
授权日期：2023-05-16 00:00:00
第一发明人：张青科
其他发明人：张青科; 宋振纶; 杨丽景; 胡方勤; 姜建军; 郑必长
专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所