专利名称：一种基于反应回滞曲线制备TiN涂层的控制方法
专利(申请)号：CN202111448309.3
申请日期：2021-11-30
授权日期：2024-12-06 00:00:00
发明人：汪爱英; 祁宇星; 陈仁德; 周广学; 张栋
其他发明人：
专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所